经颅磁刺激联合经颅直流电刺激在大脑皮层电场分布的研究
王贺1
王欣1
靳静娜1
李颖1
刘志朋1
殷涛2
1.中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所,天津,3001922.中国医学科学院北京协和医学院生物医学工程研究所,天津300192;中国医学科学院神经科学中心,北京100730
摘要：经颅磁刺激(transcranial magnetic stimulation,TMS)和经颅直流电刺激(transcranial direct current stimulation,tDCS)均可用于调控大脑皮层的兴奋性.此前两种技术很少被用于同时刺激大脑皮层的两个不同区域,近期研究表明,同时刺激大脑皮层两个相互连接的区域可以提高刺激效果.为了确保应用安全性并给出实验指导,本研究使用SimNibs进行仿真计算,研究同时应用TMS和tDCS时在大脑皮层产生的两个电场之间的相互作用.结果表明,同时应用TMS和tDCS是安全的,且TMS和tDCS之间的相互作用受线圈和电极之间相对位置的影响.
关键词：经颅磁刺激经颅直流电刺激电场分布仿真SimNibs
分类号：R318(医用一般科学)
资助基金：国家自然科学基金(81801798)国家自然科学基金(81772003)科技创新工程项目(CAMS-I2M2016-I2M-1004)国家自然科学基金(2017320025)
论文发表日期：2019-01-01
在线出版日期：2026-09-11（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：5( 11-15 )
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