温室痕量灌溉条件下施肥量与追肥模式对黄瓜产量和品质的影响
王枭
杨培岭
黄令淼
1.中国农业大学,北京,1000832.中国农业大学,北京,1000833.中国农业大学,北京,100083
摘要：[目的]探究痕量灌溉条件下适合温室黄瓜的施肥规律.[方法]采用对照试验方法,设3种总施肥量(高肥、中肥、低肥)和3种底肥与追肥比(K=0、1/3、1),共9个处理,分析了温室黄瓜产量和品质的变化.[结果]①在总肥量一定时,K=1/3有利于黄瓜增产;而K值一定时,高肥处理产量最高,中肥处理产量较低于高肥处理,但差距不大.②K值一定时,随着总肥量的增加,果实内可溶性糖和Vc量呈现先增后减的趋势,硝酸盐量一直增加,而可溶性固形物量在施中肥后增加趋势减缓;果实内可溶性糖、可溶性固形物和还原型Vc量在施中肥(T5)时基本达到峰值,且显著高于高肥(T8)处理;果实内硝酸盐量在施高肥(T8)时达到峰值;K=1/3时果实内可溶性糖、可溶性固形物和还原型Vc、硝酸盐积累量均高于K=1的.[结论]综合产量与品质各指标,施中肥且K=1/3为更适合痕量灌溉条件下温室黄瓜的施肥模式.
关键词：日光温室黄瓜痕量灌溉施肥制度
分类号：S216.2(农业动力、农村能源)S51(禾谷类作物)
论文发表日期：2019-01-01
在线出版日期：2026-09-12（本平台首次上网日期，不代表文献的发表时间）
页数：6( 36-41 )
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